局在プラズモン増強光第二次高調波発生による色素分子の被覆角度の調査
局在プラズモン増強光第二次高調波発生による色素分子の被覆角度の調査
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局域等离子体增强光学二次谐波产生染料分子覆盖角的研究
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
梶川浩太郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山口達矢;梶川浩太郎
