Laser Annealing of Silicon Nanocrystals Thin-films Prepared by VHF Plasma Deposition System
Laser Annealing of Silicon Nanocrystals Thin-films Prepared by VHF Plasma Deposition System
复制标题
VHF等离子体沉积系统制备硅纳米晶薄膜的激光退火
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Ryoichi Ishihara and Shunri Oda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nakamine;Michiel van der Zwan;Johan van der Cingel;Tetsuo Kodera;Ken Uchida;Ryoichi Ishihara and Shunri Oda
