Refinement of electrodeposition mechanism for fabrication of thin nickel films on n-type silicon (1 1 1)
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DOI：
10.1016/j.jelechem.2012.07.005
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发表时间：
2013-02
影响因子：
4.5
通讯作者：
F. Nasirpouri;S. Janjan;S. Peighambari;M. Hosseini;A. Akbari;A. Samardak
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Nasirpouri;S. Janjan;S. Peighambari;M. Hosseini;A. Akbari;A. Samardak
