Investigation of Polishing Mechanism of Sapphire-CMP Using Commercially Available Single-Sided Polisher
Investigation of Polishing Mechanism of Sapphire-CMP Using Commercially Available Single-Sided Polisher
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使用市售单面抛光机研究蓝宝石-CMP 抛光机制
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Michio Uneda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryuji Kiyama;Takayuki Nonoyama;Susumu Wada;Nobuto Kitamura;Takayuki Kurokawa;Tasuku Nakajima;Kazunori Yasuda;Jian Ping Gong;Michio Uneda
