Y.Waseda, K.Shinoda, K.Sugiyama, S.Takeda, K.Terashima and J.M.Toguri: "High Temperature X-ray Diffraction Study of Melt Structure of Silicon" Jpn. J.Appl. Phys.34 (8A). 4124-4128 (1995)
Y.Waseda, K.Shinoda, K.Sugiyama, S.Takeda, K.Terashima and J.M.Toguri: "High Temperature X-ray Diffraction Study of Melt Structure of Silicon" Jpn. J.Appl. Phys.34 (8A). 4124-4128 (1995)
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Y.Waseda、K.Shinoda、K.Sugiyama、S.Takeda、K.Terashima 和 J.M.Toguri：“硅熔体结构的高温 X 射线衍射研究”Jpn。
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