Fabrication of L1_2-CrPt_3 alloy films using rapid thermal annealing for planar bit patterned media
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使用平面位图案介质快速热退火制备 L1_2-CrPt_3 合金薄膜
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Tsunashima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Kato;D.Oshima;Y.Yamauchi;S.Iwata;S.Tsunashima
