NiSi_2バッファ層を用いたSi基板上の弗化物ヘテロ構造の成長
NiSi_2バッファ層を用いたSi基板上の弗化物ヘテロ構造の成長
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使用NiSi_2缓冲层在Si衬底上生长氟化物异质结构
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
筒井一生
中科院分区：
文献类型：
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作者：
吉住友樹;齊藤昇;大下隆生;筒井一生
