シリコンフォトニクスの基礎と応用
シリコンフォトニクスの基礎と応用
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硅光子学的基础和应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
和田一実
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Minami;Y.;Kasukawa;T.;Kakazu;Y.;Iigo;M.;Sugimoto;M.;Ikeda;S.;Yasui;A.;van der Horst;G.;Soga;T.;Ueda;H.;和田一実
