Ideal Methyl Termination of the Si (111) Surface
Ideal Methyl Termination of the Si (111) Surface
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Si (111) 表面的理想甲基终止
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Atsuo Kasuya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taro Yamada;Maki Kawai;Andrzej Wawro;Shozo Suto;and Atsuo Kasuya
