Effects of composition and structure on hydrogen incorporation in tungsten oxide films deposited by sputtering

Effects of composition and structure on hydrogen incorporation in tungsten oxide films deposited by sputtering
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成分和结构对溅射沉积氧化钨薄膜中氢掺入的影响

DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Nuclear Inst. and Methods in Physics Research B 266
影响因子：
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通讯作者：
T. Shikama
T. Shikama
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
A. Inouye;S. Yamamoto;S. Nagata;M. Yoshikawa;T. Shikama

文献摘要

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