Modeling of Self-Face-Alignment Process Using Contact Potential Difference
Modeling of Self-Face-Alignment Process Using Contact Potential Difference
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使用接触电位差的自面对准过程建模
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Tsuchiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Sato;T. Tanemura;G. Lopez;M. Serry;K. Sugano;T. Tsuchiya
