PCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いたSiCウエハの薄化

PCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)を用いたSiCウエハの薄化
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使用 PCVM(等离子体化学汽化加工)减薄 SiC 晶圆

DOI:
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发表时间:
2007
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
山内和人
山内和人
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
加藤武寛;佐野泰久;堀勉;原 英之;山村和也;三村秀和;勝山義昭;山内和人

文献摘要

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