Ar+-laser-assisted subatomic-layer epitaxy of Si
Ar+-laser-assisted subatomic-layer epitaxy of Si
复制标题
Ar激光辅助Si亚原子层外延
DOI：
10.1016/s0022-0248(96)00454-x
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发表时间：
1996
影响因子：
1.8
通讯作者：
Mitsutomi Yamashita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Suda;M. Ishida;Mitsutomi Yamashita
