Effect of Laser-Plasma X-Ray Irradiation on Crystallization of Amorphous Silicon Film by Excimer Laser Annealing
Effect of Laser-Plasma X-Ray Irradiation on Crystallization of Amorphous Silicon Film by Excimer Laser Annealing
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激光等离子体X射线辐照对准分子激光退火非晶硅薄膜晶化的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他6名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Naoto Matsuo;他6名
