NLDプラズマ中のイオン生成維持および基板へのイオン入射量均一化のための磁界制御

NLDプラズマ中のイオン生成維持および基板へのイオン入射量均一化のための磁界制御
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磁场控制可维持 NLD 等离子体中的离子生成并均衡入射到基板上的离子量

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
電気学会論文誌(特集「プロセスプラズマの発生と応用」)
影响因子:
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通讯作者:
村山明宏
村山明宏
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
吉田拓平;櫻井洋平;菅原広剛;村山明宏

文献摘要

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