Improving the mobility of the amorphoussilicon TFT with the new stratified structure by PECVD
Improving the mobility of the amorphoussilicon TFT with the new stratified structure by PECVD
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利用PECVD新型分层结构提高非晶硅TFT的迁移率
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Gu Zhihua
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yu Yao;Zhang Jing-Si;Chen Dai-Dai;Guo Ruiqian;Gu Zhihua
