Effect of partial pressure on the internal stress and the crystallographic structure of r.f. reactive sputtered Ti-N films
Effect of partial pressure on the internal stress and the crystallographic structure of r.f. reactive sputtered Ti-N films
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分压对 r.f. 内应力和晶体结构的影响
DOI：
10.1016/s0040-6090(98)01632-0
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
K. Koterazawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Inoue;T. Ohba;H. Takata;K. Koterazawa
