Projection-based high coverage fast layout decomposing algorithm of metal layer for accelerating lithography friendly design at full chip level
Projection-based high coverage fast layout decomposing algorithm of metal layer for accelerating lithography friendly design at full chip level
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基于投影的高覆盖金属层快速版图分解算法，加速全芯片级光刻友好设计
DOI：
10.1117/1.jmm.20.1.013401
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发表时间：
2021-01
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Libin Zhang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Xiaojing Su;Dong Shen;Yayi Wei;Yajuan Su;Lisong Dong;Rui Chen;Tianyang Gai;Libin Zhang
Abstract. Background: As semiconductor technologies continue to shrink, optical proximity correction may not have enough space to optimize layout due to limitations from adjacent layers. Lithography friendly design (LFD) becomes a powerful tool to detect
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DOI：
10.1117/12.846673
发表时间：
2010-03
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Li-Fu Chang;Chang-Il choi;Guojie Cheng;A. Vikram;Gary Zhang;B. Su
通讯作者：
Li-Fu Chang;Chang-Il choi;Guojie Cheng;A. Vikram;Gary Zhang;B. Su
DOI：
10.1117/3.2217861
发表时间：
2016-01
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
L. Liebmann;Kaushik Vaidyanathan;L. Pileggi
通讯作者：
L. Liebmann;Kaushik Vaidyanathan;L. Pileggi
DOI：
10.1117/12.2551682
发表时间：
2020-03
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Jet Jiang;Gavin Li;Frank Hou;Qijian Wan;Xinyi Hu;Zhengfang Liu;Zhixi Chen;Chunshan Du
通讯作者：
Jet Jiang;Gavin Li;Frank Hou;Qijian Wan;Xinyi Hu;Zhengfang Liu;Zhixi Chen;Chunshan Du
DOI：
10.1117/12.2515139
发表时间：
2019-03
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Namjae Kim;Kichul Park;Jiwon Oh;Sang-Hun Jung;Sangah Lee;Jae-Hyun Kang;S. Paek;K. Madkour;Wael ElManhawy;Aliaa Kabeel;Ahmed ElGhoroury;M. Shafee;Asmaa Rabie;Joe Kwan
通讯作者：
Namjae Kim;Kichul Park;Jiwon Oh;Sang-Hun Jung;Sangah Lee;Jae-Hyun Kang;S. Paek;K. Madkour;Wael ElManhawy;Aliaa Kabeel;Ahmed ElGhoroury;M. Shafee;Asmaa Rabie;Joe Kwan
DOI：
10.1117/12.2515137
发表时间：
2019-03
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Zhenzhen Wan;Limei Liu;Huan Kan;Qijian Wan;Xinyi Hu;Zhengfang Liu;Chunshan Du
通讯作者：
Zhenzhen Wan;Limei Liu;Huan Kan;Qijian Wan;Xinyi Hu;Zhengfang Liu;Chunshan Du