S.Kong, K.Minami and M.Esashi: "Fabrication of Reactive Ion Etching Systems for Deep Silicon Machining" Trans.IEEE of Japan. 117-E,1. 3-9 (1997)
S.Kong, K.Minami and M.Esashi: "Fabrication of Reactive Ion Etching Systems for Deep Silicon Machining" Trans.IEEE of Japan. 117-E,1. 3-9 (1997)
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S.Kong、K.Minami 和 M.Esashi：“用于深硅加工的反应离子蚀刻系统的制造”，日本 Trans.IEEE。
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