K. Nagashima, T. Hirai, H. Koike, Y. Fujisaki, T. Hase, Y. Miyasaka, Y. Tarui: "Effect of Reducing Process Temperature for Preparing SrBi_2Ta_2O_9 in a Metal/Ferroelectric/Semiconductor Structure" Jpn. J. Appl. Psys.36. L619-L621 (1997)
K. Nagashima, T. Hirai, H. Koike, Y. Fujisaki, T. Hase, Y. Miyasaka, Y. Tarui: "Effect of Reducing Process Temperature for Preparing SrBi_2Ta_2O_9 in a Metal/Ferroelectric/Semiconductor Structure" Jpn. J. Appl. Psys.36. L619-L621 (1997)
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K. Nagashima、T. Hirai、H. Koike、Y. Fujisaki、T. Hase、Y. Miyasaka、Y. Tarui：“降低工艺温度对金属/铁电/半导体结构中制备 SrBi_2Ta_2O_9 的影响”Jpn。
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