イオンミリングを用いたナノギャップ電極パターン用微細形状の形成
イオンミリングを用いたナノギャップ電極パターン用微細形状の形成
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使用离子铣削形成纳米间隙电极图案的精细特征
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
菅 洋志，塚越 一仁，内藤 泰久
中科院分区：
文献类型：
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作者：
乙津 和希;菅 洋志，塚越 一仁，内藤 泰久
