強磁性シリサイド・ホイスラー合金/半導体接合の電子状態と半導体へのスピン注入
強磁性シリサイド・ホイスラー合金/半導体接合の電子状態と半導体へのスピン注入
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铁磁硅化物-赫斯勒合金/半导体结的电子态和自旋注入半导体
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤博介ら
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Yang;D.Wang;H.Nakashima;玉井架;本多周太 et al.;玉井架;玉井架;宮尾正信 et al.;Chia-Lung Lee;伊藤博介ら
