TEM内での低温圧力印加技術を用いたMnV2O4のドメイン構造解析

TEM内での低温圧力印加技術を用いたMnV2O4のドメイン構造解析
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使用 TEM 低温压力应用技术分析 MnV2O4 的域结构

DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
村井智 他
村井智 他
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Y. Murakami;A. Ohta;A. N. H attori;T. Kanki;S. Aizawa;T. Tanigaki;H. S. Park;H. Tanaka;D. Shindo;Y. Murakami;Y. Murakami;村上恭和;村井智 他

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