Approach of natural polysaccharide to green resist polymers for EUV lithography
Approach of natural polysaccharide to green resist polymers for EUV lithography
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天然多糖制备用于 EUV 光刻的绿色抗蚀剂聚合物的方法
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Makoto Hanabata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Satoshi Takei;Akihiro Oshima;Tomoko G. Oyama;Kenta Ito;Kigenn Sugahara;Miki Kashiwakura;Takahiro Kozawa;Seiichi Tagawa;Makoto Hanabata
