Toshiro Maruyama: "FluorineーDoped Indium Oxide Thin Films Prepared by Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L1705-L1707 (1990)
Toshiro Maruyama: "FluorineーDoped Indium Oxide Thin Films Prepared by Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L1705-L1707 (1990)
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Toshiro Maruyama：“化学气相沉积制备的掺氟氧化铟薄膜”，日本应用物理学杂志 29。L1705-L1707 (1990)
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