金属性HfN/絶縁性HfNxによる全窒化膜Geゲートスタックの研究
金属性HfN/絶縁性HfNxによる全窒化膜Geゲートスタックの研究
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金属HfN/绝缘HfNx全氮化物Ge栅叠层的研究
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
前田 辰郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
