M.Adachi, K.Okuyam, N.Tohge et al.: "Precursors in Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition of Silica Films from Tetraethylorthosilicate/Ozone System" Japanese Journal of Applied Physics. 33. L447-L450 (1994)
M.Adachi, K.Okuyam, N.Tohge et al.: "Precursors in Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition of Silica Films from Tetraethylorthosilicate/Ozone System" Japanese Journal of Applied Physics. 33. L447-L450 (1994)
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M.Adachi、K.Okuyam、N.Tohge 等人：“原硅酸四乙酯/臭氧系统中二氧化硅薄膜的大气压化学气相沉积中的前体”日本应用物理学杂志。
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