PLZTの全偏光特性を考慮した複屈折性メモリデバイスの開発

PLZTの全偏光特性を考慮した複屈折性メモリデバイスの開発
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考虑PLZT全偏振特性的双折射存储器件的开发

DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
大谷 幸利
大谷 幸利
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
銀屋 真;水谷 康弘;岩田 哲郎;大谷 幸利

文献摘要

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