Local structural analysis of a-SiCx:H films formed by decomposition of tetramethylsilane in microwave discharge flow of Ar
Local structural analysis of a-SiCx:H films formed by decomposition of tetramethylsilane in microwave discharge flow of Ar
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Ar微波放电流中四甲基硅烷分解形成的a-SiCx:H薄膜的局部结构分析
DOI：
10.1016/j.diamond.2011.01.020
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发表时间：
2011
影响因子：
4.1
通讯作者：
H. Ito
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Wada;T. Ogaki;M. Niibe;M. Tagawa;H. Saitoh;K. Kanda;H. Ito
