Substrate Bias Effect on Deposition Process of Amorphous Carbon Films
Substrate Bias Effect on Deposition Process of Amorphous Carbon Films
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基底偏压对非晶碳膜沉积过程的影响
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shinohara、他4名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Inayoshi;H. Kawazoe;M. Shinohara、他4名
