板谷 良平: "半導体プロセス用プラズマの特性と制御" 応用物理. 59. 912-916 (1990)
板谷 良平: "半導体プロセス用プラズマの特性と制御" 応用物理. 59. 912-916 (1990)
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Ryohei Itaya：“半导体加工等离子体的特性和控制”应用物理 59. 912-916 (1990)。
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