T. Mizokuro, K. Yoneda, Y. Todokoro, and H. Kobayashi: "Mechanism of low temperature nitridation of silicon oxide layers by nitrogen plasma generated by low energy electron impact"J. Appl. Phys.. 85. 2921 (1999)
T. Mizokuro, K. Yoneda, Y. Todokoro, and H. Kobayashi: "Mechanism of low temperature nitridation of silicon oxide layers by nitrogen plasma generated by low energy electron impact"J. Appl. Phys.. 85. 2921 (1999)
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T. Mizokuro、K. Yoneda、Y. Todokoro、H. Kobayashi：“低能电子碰撞产生的氮等离子体对氧化硅层进行低温氮化的机理”J。
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