Picosecond Time-resolved X-ray Diffraction Measurements of Si (111) Single Crystals Excited by a Low Intensity Femtosecond NIR Laser
Picosecond Time-resolved X-ray Diffraction Measurements of Si (111) Single Crystals Excited by a Low Intensity Femtosecond NIR Laser
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低强度飞秒近红外激光激发的 Si (111) 单晶的皮秒时间分辨 X 射线衍射测量
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Fukumura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Odaka;K. Hatanaka;H. Fukumura
