Equilibrium concentration of hydrogen at tungsten surface
Equilibrium concentration of hydrogen at tungsten surface
复制标题
钨表面氢的平衡浓度
DOI：
10.1016/j.jnucmat.2020.152377
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发表时间：
2020-12
影响因子：
3.1
通讯作者：
Guang-Hong Lu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Xuesong Zhang;Ke Xu;Ying Zhang;Yu-Hao Li;Shuo Jin;Guang-Hong Lu
在这项工作中，采用数值计算来研究氢（H）原子在钨（W）表面上的吸附平衡状态。通过经验势模型得到不同W表面的表面能和相关表面原子密度。计算表明，表面原子密度越高，表面越稳定，其中最稳定的表面是W(110)表面。通过密度泛函理论系统地分析了H吸附能。通过采用蒙特卡罗模型，研究了吸附平衡浓度对 H 覆盖率、300 K 至 1100 K 温度范围和 10−6 Pa 至 106 Pa 压力范围的依赖关系。我们的结果表明，当压力范围从 10−6Pa 变化到 102Pa 时，大多数 H 原子从 700 K 到 1100 K 解吸。在平衡状态下，单层吸附的 H 密度估计为 ∼1.39 × 1018m−2 到 ∼1.40 × 1019m−2。
In this work, numerical calculations have been employed to investigate the adsorption equilibrium state of hydrogen (H) atoms on tungsten (W) surface. The surface energy and relevant surface atomic density of different W surfaces are obtained through the empirical-potential model. The calculations show that the higher surface atomic densities correspond to the more stable surfaces, of which the most stable surface is the W (110) surface. The H adsorption energies are systematically analyzed by density functional theory. The equilibrium concentration dependence for adsorption upon H coverage, a temperature range from 300 K to 1100 K, and a pressure range from 10−6Pa to 106Pa is examined by employing a Monte Carlo model. Our results suggest that most of H atoms desorb from 700 K to 1100 K when the pressure region varies from 10−6Pa to 102Pa. The monolayer-adsorbed H density is estimated from ∼1.39 × 1018m−2to ∼1.40 × 1019m−2at the equilibrium state.
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影响因子：
1.9
作者：
L. Roelofs;P. J. Estrup
通讯作者：
L. Roelofs;P. J. Estrup
DOI：
10.1632/s0030812900174759
发表时间：
1995-05
期刊：
PMLA/Publications of the Modern Language Association of America
影响因子：
--
作者：
D. Batani;S. Baton;A. Casner;S. Depierreux;M. Hohenberger;O. Klimo;M. Koenig;C. Labaune;X. Ribeyre;C. Rousseaux;G. Schurtz;W. Theobald;V. Tikhonchuk
通讯作者：
D. Batani;S. Baton;A. Casner;S. Depierreux;M. Hohenberger;O. Klimo;M. Koenig;C. Labaune;X. Ribeyre;C. Rousseaux;G. Schurtz;W. Theobald;V. Tikhonchuk
DOI：
10.1007/s005850050784
发表时间：
1999-05
期刊：
PMLA/Publications of the Modern Language Association of America
影响因子：
--
作者：
Guang-Hong Lu-;Hong-Bo Zhou;Charlotte S. Becquart
通讯作者：
Guang-Hong Lu-;Hong-Bo Zhou;Charlotte S. Becquart
DOI：
10.1007/s42864-019-00004-x
发表时间：
2019-04
期刊：
Tungsten
影响因子：
--
作者：
Hao Yin;Jun Wang;Wangguo Guo;Long Cheng;Yue Yuan;G. Lu
通讯作者：
Hao Yin;Jun Wang;Wangguo Guo;Long Cheng;Yue Yuan;G. Lu
影响因子：
8.6
作者：
M. Balden;S. Lehwald;H. Ibach;D. Mills
通讯作者：
M. Balden;S. Lehwald;H. Ibach;D. Mills