松英達也,英崇夫,池内保一: "アーク・イオンプレーティング法によるTiN皮膜の結晶状態に対する成膜条件の影響"材料. (採択決定,掲載号は未定).
松英達也,英崇夫,池内保一: "アーク・イオンプレーティング法によるTiN皮膜の結晶状態に対する成膜条件の影響"材料. (採択決定,掲載号は未定).
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Tatsuya Matsuhide、Takao Hide、Yasuichi Ikeuchi：“电弧离子镀法沉积条件对 TiN 薄膜晶态的影响”材料（已接受，待出版）。
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