Ta/Al-Fe2O3薄膜电极的制备及其光电催化降解亚甲基蓝性能
Ta/Al-Fe2O3薄膜电极的制备及其光电催化降解亚甲基蓝性能
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DOI：
10.3866/pku.whxb201503112
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发表时间：
2015-05
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
丛燕青
中科院分区：
文献类型：
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作者：
金环;王娟;姬云;陈媚媚;张轶;王齐;丛燕青
采用简单的涂滴法制备出新型的Al、Ta共掺杂的三元铁氧化物（Ta/Al-Fe2O3）可见光响应型光催化薄膜.运用X射线光电子能谱（XPS）和紫外-可见（UV-Vis）光谱等手段对其进行了表征,考察了其光电化学性能,并研究了复合电极光电催化降解亚甲基蓝（MB）废水的反应性能.由表面谱学分析可知,Ta和Al成功掺入Fe2O3中,Ta会改变催化剂表面Al和O的化学环境.在可见光照射下的光电催化（PEC）反应中,Ta/Al-Fe2O3降解MB的反应速率约为Al-Fe2O3的2倍,光电催化共作用的效果优于单纯光催化