T.Nishioka et al: "Internal Stress of SiO_2 Thin Film Prepared by Sol-gel Method and Its Relation to Electrical Properties ." Tohoku Branch, Annual Meeting of IEE of Japan. 1J-13. (1992)
T.Nishioka et al: "Internal Stress of SiO_2 Thin Film Prepared by Sol-gel Method and Its Relation to Electrical Properties ." Tohoku Branch, Annual Meeting of IEE of Japan. 1J-13. (1992)
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T.Nishioka等：“溶胶-凝胶法制备的SiO_2薄膜的内应力及其与电性能的关系”。
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