K. Hoshikawa, T. Taishi, and X. Huang: "Dislocation-free CZ-Si crystal growth without a thin neck"Japanese Association for Crystal Growth. 29. 413-422 (2002)
K. Hoshikawa, T. Taishi, and X. Huang: "Dislocation-free CZ-Si crystal growth without a thin neck"Japanese Association for Crystal Growth. 29. 413-422 (2002)
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K. Hoshikawa、T. Taishi 和 X. Huang：“无位错 CZ-Si 晶体生长，无细颈”日本晶体生长协会。
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