T. Iizuka, A. Onoda, and T. HOshide: "MD Simulation of Hardness Properties of Al Thin Film Sputtered on Si Substrate and Its Related porosity"JSMS International Journal, Series A. 44-3. 346-353 (2001)
T. Iizuka, A. Onoda, and T. HOshide: "MD Simulation of Hardness Properties of Al Thin Film Sputtered on Si Substrate and Its Related porosity"JSMS International Journal, Series A. 44-3. 346-353 (2001)
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T. Iizuka、A. Onoda 和 T. HOshide：“硅基板上溅射的铝薄膜的硬度特性及其相关孔隙率的 MD 模拟”JSMS 国际期刊，系列 A. 44-3。
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