Effect of hydrogen diffusion from SiOx etch-stopper layer on amorphous In-Ga-Zn-O thin-film transistor properties
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SiOx 刻蚀阻挡层氢扩散对非晶 In-Ga-Zn-O 薄膜晶体管性能的影响
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mamoru Furuta
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tatsuya Toda;Daichi Koretomo;Mamoru Furuta
