T. Fukutsuka et al.: "Electrochemical properties of carbonaceous thin films prepared by plasma chemical vapor deposition"Journal of Electrochemical Society. Vol.148. A1260-A1265 (2001)
T. Fukutsuka et al.: "Electrochemical properties of carbonaceous thin films prepared by plasma chemical vapor deposition"Journal of Electrochemical Society. Vol.148. A1260-A1265 (2001)
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T. Fukutsuka等人：“等离子体化学气相沉积制备的碳质薄膜的电化学性能”电化学学会杂志。
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