Hydrogen radical treatment for suppression of oxidation and contamination at copper surfaces

Hydrogen radical treatment for suppression of oxidation and contamination at copper surfaces
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用于抑制铜表面氧化和污染的氢自由基处理

DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
The 8th Japan-China-Korea MEMS/NEMS with NANO KOREA 2017
影响因子：
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通讯作者：
and T. Suga
and T. Suga
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
S. Shin;E. Higurashi;K. Furuyama;and T. Suga

文献摘要

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