ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線 ～二次元ナノシートの物性評価、構造解析、合成、成膜プロセス技術、応用展開～ 第3章 二次元ナノシートの成膜プロセシング技術 第4節 共晶系で生じる析出現象を応用したIV族系ナノシートの形成技術
ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線 ～二次元ナノシートの物性評価、構造解析、合成、成膜プロセス技術、応用展開～ 第3章 二次元ナノシートの成膜プロセシング技術 第4節 共晶系で生じる析出現象を応用したIV族系ナノシートの形成技術
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后石墨烯材料创制与应用发展最前沿——二维纳米片的物性评价、结构分析、合成、成膜工艺技术及应用开发——第三章二维纳米片成膜加工技术第四节 共晶体系中产生的利用沉淀现象的IV族纳米片的形成技术
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
(分担執筆) 黒澤 昌志／大田 晃生 (監修者) 柚原淳司,
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Ohta;M. Ikeda;K. Makihara;and S. Miyazaki;(分担執筆) 黒澤 昌志／大田 晃生 (監修者) 柚原淳司,
