M.Adachi, T.Fujimoto, Y.Itoh and K.Okuyama: "Numerical Simulation of Films Formed by Cluster/Particle Deposition in Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Process Using Organic Silicon Vapors and Ozone Gas."Jpn. J. Appl. Phys.. 39-6 (in press). (2
M.Adachi, T.Fujimoto, Y.Itoh and K.Okuyama: "Numerical Simulation of Films Formed by Cluster/Particle Deposition in Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Process Using Organic Silicon Vapors and Ozone Gas."Jpn. J. Appl. Phys.. 39-6 (in press). (2
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M.Adachi、T.Fujimoto、Y.Itoh 和 K.Okuyama：“使用有机硅蒸气和臭氧气体在大气压化学气相沉积过程中通过团簇/颗粒沉积形成的薄膜的数值模拟。”Jpn。
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