Si/Geコアシェルナノワイヤ中のドーピング制御
Si/Geコアシェルナノワイヤ中のドーピング制御
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Si/Ge核壳纳米线的掺杂控制
DOI:
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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
深田 直樹
中科院分区:
文献类型:
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作者:
西部 康太郎;Wipakorn Jevasuwan;Thiyagu Subramani;武井 俊朗;深田 直樹