Electron-beam-induced deposition of carbon films on Si(1 0 0) using chemisorbed ethylene as a precursor molecule
Electron-beam-induced deposition of carbon films on Si(1 0 0) using chemisorbed ethylene as a precursor molecule
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使用化学吸附乙烯作为前体分子在 Si(1 0 0) 上电子束诱导碳膜沉积
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Yates
中科院分区：
文献类型：
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作者：
O. Guise;H. Marbach;J. Levy;J. Ahner;J. Yates
