a-Siキャップ付加による界面変調Sn添加Ge極薄膜/絶縁基板のキャリア移動度向上
a-Siキャップ付加による界面変調Sn添加Ge極薄膜/絶縁基板のキャリア移動度向上
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通过添加a-Si帽提高界面调制Sn掺杂Ge超薄膜/绝缘衬底的载流子迁移率
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐道 泰造
中科院分区：
文献类型：
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作者：
原 龍太郎;千代薗 修典;茂藤 健太;山本 圭介;佐道 泰造
