Challenging material patterning: fine lithography on coarse substrates.
Challenging material patterning: fine lithography on coarse substrates.
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具有挑战性的材料图案化：粗糙基板上的精细光刻
作者：
S. Gilles;A.-K. Steppert;M. Barth;L. Niewoehner;U. Simon
无机材料的精确图案化对于许多技术应用来说非常重要。通常，在形貌、灵活性和表面粘附力方面具有挑战性的基材上需要光刻工艺。在这里，我们展示了通过浸笔光刻在胶带样品上制造人造枪弹残留物（GSR），作为在粗糙基材上进行精细光刻的示例。我们通过用细尖直接书写将含铅、钡和锑的墨水沉积在 SEM 胶带上。制造了尺寸在 10–75μm 范围内的单元件和多元件结构。扫描 36:362–367，2014 年。© 2013 Wiley periodicals, Inc.
Precise patterning of inorganic materials is important for many technological applications. Often lithography processes are required on challenging substrates with respect to topography, flexibility, and surface adhesion. Here we show the fabrication of artificial gunshot residues (GSR) on adhesive tape samples by means of dip‐pen lithography as an example for fine lithography on coarse substrates. We deposited lead‐, barium‐, and antimony‐containing inks on SEM adhesive tape by direct writing with a fine tip. Single as well as multiple element structures with dimensions in the range of 10–75 µm were fabricated. SCANNING 36:362–367, 2014. © 2013 Wiley Periodicals, Inc.
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