Low-energy mass-selected ion beam production of fragments from tetraethylorthosilicate for the formation of silicon dioxide film
Low-energy mass-selected ion beam production of fragments from tetraethylorthosilicate for the formation of silicon dioxide film
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低能质量选择离子束生产原硅酸四乙酯碎片以形成二氧化硅薄膜
DOI：
10.1016/j.tsf.2018.04.003
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Kiuchi Masato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshimura Satoru;Sugimoto Satoshi;Takeuchi Takae;Murai Kensuke;Kiuchi Masato
