F.Tochikubo et al: "Frequency dependence of RF glow discharges in CH_4/H_2" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing(Tokyo). 153-156 (1990)
F.Tochikubo et al: "Frequency dependence of RF glow discharges in CH_4/H_2" Proc.of 7th Symp.on Plasma Processing(Tokyo). 153-156 (1990)
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F.Tochikubo 等人：“CH_4/H_2 中 RF 辉光放电的频率依赖性”Proc.of 7th Symp.on Plasma Process（东京）。
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